Стендеры для налива/слива нефтепродуктов в морские и речные суда-танкеры
Широкий выбор полюсных наконечников и различных приставок позволяет сконфигурировать JEM-2100Plus для решения самых разнообразных задач в сфере материаловедения, микро- и наноэлектроники, биологии и медицины.
Новая система управления «TEM Center», которая уже опробована на других моделях ПЭМ (JEM-1400Plus, JEM-ARM200F и др.) и доказала удобство и эффективность, работает под 64-битной версией Microsoft Windows и позволяет легко переключаться между различными режимами работы. На экран компьютера выведено управление всеми основными параметрами прибора.
Высокоточный, стабильный гониометрический столик образцов JEM-2100Plus, оснащенный пьезомеханической системой подвижки и компенсации дрейфа, позволяет получать четкие микрофотографии высокого разрешения, осуществлять элементное картирование образцов с высокой локальностью, а также проводить их 3D-томографию.
В конструкцию электронно-оптической колонны JEM-2100Plus заложены три независимые конденсорные линзы, которые обеспечивают высокий ток для любого диаметра пучка, обеспечивая тем самым широкие возможности для проведения элементного анализа и микродифракции. Разработанный специалистами компании JEOL Alpha Selector™ позволяет пользователю легко выбирать любой режим освещения образца: от полностью сходящегося пучка до полностью параллельного. Наблюдение магнитных доменов (микроскопия Лоренца) доступно даже в базовой комплектации прибора. Диафрагма высокого контраста, совместимая с любым полюсным наконечником, позволяет одновременно получать высококонтрастные изображения и проводить элементный анализ.
Возможность выбора цифровых камер от третьих производителей или собственная разработка JEOL – полностью интегрированная 8Мп камера нижнего крепления, с четко работающим набором автофункций (экспозиция, автофокус, запись и монтаж изображений, компенсация дрейфа) и управлением через общий TEM Center. В комбинации с ПРЭМ-режимом также есть возможность использования функций автофокусировки, автоконтраста/автояркости и системы навигации, позволяющей автоматически перемещать столик образцов в любую ранее записанную точку.
Конфигурация | Сверхвысокое разрешение | Высокое разрешение | Большой наклон образца | Крио | Высокий контраст |
Разрешение | |||||
---|---|---|---|---|---|
по точкам, нм | 0,194 | 0,23 | 0,25 | 0,27 | 0,31 |
по решетке, нм | 0,14 | ||||
Ускоряющее напряжение | |||||
Предустановленные значения | 80, 100, 120, 160, 200 кВ | ||||
Минимальный шаг изменения напряжения | 50 В | ||||
Стабильность параметров электронно-оптической колонны | |||||
ускоряющего напряжения | 2х10-6/мин. | ||||
тока объективной линзы | 2х10-6/мин. | ||||
Параметры объективной линзы | |||||
Фокусное расстояние | 1,9 мм | 2,3 мм | 2,7 мм | 2,8 мм | 3,9 мм |
Коэффициент сферических аберраций | 0,5 мм | 1,0 мм | 1,4 мм | 2,0 мм | 3,3 мм |
Коэффициент хроматических аберраций | 1,1 мм | 1,4 мм | 1,8 мм | 2,1 мм | 3,0 мм |
Минимальный шаг фокуса | 1,0 нм | 1,5 нм | 1,8 нм | 2,0 нм | 5,2 нм |
Диаметр фокусного пятна на образце | |||||
В режиме ПЭМ | 20-200 нм | 1 – 5 мкм | |||
В режиме ПРЭМ/ЭДС | 0,5 – 25 нм, угол схождения пучка зависит | 1,0 – 25 нм, угол схождения пучка | 1,5 – 35 нм, угол схождения пучка | 2,0 – 45 нм, угол схождения пучка | 10 – 500 нм |
В режиме нормальной дифракции | |||||
В режиме дифракции в сходящемся пучке | от α селектора | зависит от α селектора | зависит от α селектора | зависит от α селектора | |
Режим дифракции в сходящемся пучке | |||||
Угол схождения (2α) | 1,5 – 20 мрад. или более | - | - | ||
Угол сбора | ±10° | - | - | ||
Увеличение | |||||
В режиме высоких увеличений | х 2’000 –1’500’000 | х 1’500 – 1’200’000 | х 1’200 – 1’000’000 | х 1’000 – 800’000 | |
В режиме низких увеличений | х 50 – 6’000 | х 50 – 2’000 | |||
В режиме дифракции | х 8’000 – 800’000 | х 6’000 – 600’000 | х 5’000 – 600’000 | х 5’000 – 400’000 | |
Длина камеры | |||||
SA DIFF, мм | 80 – 2’000 | 100 – 2’500 | 150 – 3’000 | ||
HD DIFF, мм | 4 – 80 | ||||
Диапазоны перемещений и углов наклона образца | |||||
Углы наклона по осям X / Y (при двойном наклоне) | ±25°/ ±25° | ±35°/ ±30° | ±42°/ ±30° | ±15°/ ±10° | ±38°/ ±30° |
Угол наклона по оси X | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
Диапазоны перемещений, мм | 2 (X,Y) 0,2 (Z ± 0,1 мм) | 2 (X,Y) 0,4 (Z ± 0,2 мм) |