EN JP
+7 (495) 223-40-00
+7 (495) 223-40-00
TOKYO BOEKI

Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр JPS-9200

JPS-9200
Япония
Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры

Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр JPS-9200 позволяет проводить работу в двух основных режимах: фотоэлектронного спектрометра и РФЭС-микрозонда. Он создан по классической, прекрасно отработанной схеме, оснащен двумя рентгеновскими и одной ионной пушкой, моторизованным монохроматором рентгеновского излучения, полусферическим анализатором энергий электронов, большим моторизованным столиком образцов, системой регистрации и обработки спектров. Благодаря своей высокой надежности и функциональности, JPS-9200 нашел широкое применение в исследованиях фазового состава и свойств поверхности широкого класса образцов.

Основные преимущества JPS-9200:

  • Из двух рентгеновских пушек, входящих в состав спектрометра, одна работает в связке с монохроматором, а другая представляет собой двуханодную Mg/Al систему;
  • Ионная пушка усовершенствованной конструкции позволяет не только снимать заряд, накопившийся на непроводящем образце и очищать поверхность от оксидных пленок, но и быстро и эффективно проводить травление при послойном анализе фазового состава;
  • Локальность анализа можно изменять от 30 мкм до 3 мм. Сканирование поверхности образца осуществляется перемещением столика образцов. При этом максимальная площадь карты распределения элементов и фаз по поверхности образца составляет 50 мм х 18 мм;
  • На входе полусферического электростатического анализатора энергий электронов установлена электромагнитная линза, которая очень эффективно собирает электроны, покидающие поверхность образца, и тем самым повышает чувствительность прибора более, чем в 20 раз. Кроме того, уже в базовый функционал JPS-9200 включен режим рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии полного отражения (TRXPS), позволяющий обнаруживать примеси с концентрациями до 1011 атомов/см2;
  • Большой столик образцов моторизован по 4 осям и позволяет работать с объектами диаметром до 90 мм;
  • Новое программное обеспечение для анализа поверхности использует усовершенствованные алгоритмы деконволюции спектров, основанные на стандартных базах данных рентгеновских фотоэлектронных и Оже-спектров. Это освобождает оператора от проведения сложных расчетов, требующих большого опыта работы в области рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии;
  • Возможность устанавливать разнообразные приставки (камера подготовки образцов, газовый реактор, вторично-ионный масс-спектрометр, приставка для нагрева и охлаждения образцов и др.).
Рентгеновский источник
Анод Al/Mg
Ускоряющее напряжение 3-12 кВ
Ток катод-анод 2,5-50мА
Максимальная мощность 500 Вт (Mg) / 600 Вт (Al)
Охлаждение водяное
Интенсивность пика Ag 3d5/2 (возбуждение Mg Ka, 300 Вт)
Разрешение 0,9 эВ 1,15 эВ
При анализе макрообласти более 900 000 имп./с более 1 800 000 имп./с
В пятне анализа диаметром 1 мм более 480 000 имп./с более 900 000 имп./с
В пятне анализа диаметром 0,2 мм более 50 000 имп./с более 100 000 имп./с
В пятне анализа диаметром 0,03 мм более 1 500 имп./с более 3 000 имп./с
Рентгеновский источник с монохроматором
Анод Al
Ускоряющее напряжение 3-12 кВ
Ток катод-анод 2,5-50мА
Максимальная мощность 500 Вт (Mg) / 600 Вт (Al)
Охлаждение водяное
Радиус круга Роланда 200 мм
Кристалл кварц
Интенсивность пика Ag 3d5/2 (возбуждение Al Ka 600 Вт) более 100 000 имп./с
Энергетическое разрешение 0,65 эВ
Анализатор энергии электронов
Тип анализатора полусферический электростатический
Радиус центральной орбиты 100 мм
Детектор многоканальный
Входные линзы комбинированные электромагнитные и электростатические с диафрагмами поля зрения и угла сбора
Развертка по энергиям Constant Analyzer Energy (CAE)
Constant Retarding Ratio (CRR)
Энергия прохождения 5-200 эВ
Диапазон сканирования по энергии 0 – 1480 эВ
Минимальный шаг сканирования 0,025 эВ
Энергетическое разрешение ΔE/E (CRR) от 0,15 до 0,5 %
Столик образцов
Диапазон перемещений образца X: 50 мм; Y: 18 мм; Z: ±2 мм, T (наклон): от -10 до +10°
Максимальный размер образца Максимальный размер образца
Вакуумная система
Давление в камере образцов 7×10-8 Па и ниже
Устанавливаемые приставки Камера подготовки образцов
Газовый реактор
Вторично-ионный масс-спектрометр
Приставка для нагрева и охлаждения образцов
*возможна установка других приставок по согласованию с заводом-изготовителем фирмы JEOL Ltd.
Другое оборудование / техника этой категории: