РЭМ JEOL JIB-4510

Электронно-оптическая колонна JIB-4510 создана по классической, отработанной годами, высоконадежной схеме. Источником электронов является катод из вольфрама или гексаборида лантана. В зависимости от задач заказчик может сам выбрать, с каким источником электронов целесообразнее работать в данный момент, и легко может перейти с вольфрамового катода на гексаборид-лантановый или наоборот. Все катоды предварительно отцентрированы на заводе, и их замена занимает считанные минуты. Конденсорная линза приборов данной серии позволяет плавно менять ток пучка, не меняя при этом положения фокуса. Отклоняющие катушки (дефлекторы) рассчитаны на большие углы отклонения электронного пучка, что делает удобной работу с большими образцами. Диафрагма объективной линзы легко заменяется и центрируется силами оператора, что значительно ускоряет и удешевляет сервисное обслуживание прибора.

Основные преимущества:

• Надежная электронно-оптическая колонна, использующая конденсорную линзу, которая позволяет плавно менять ток пучка, не меняя при этом положения фокуса;
• Стабильная, надежная, высокопроизводительная ионная колонна специальной конструкции, позволяющая быстро стравливать большие объемы материала, а в режиме наблюдения обеспечивающая высокое разрешение получаемых изображений (5 нм при использовании ионной пушки и детектора вторичных электронов);
• Разрешение в режиме РЭМ составляет 2,5 нм при 30 кВ в режиме высокого вакуума и 4 нм при 30 кВ в низковакуумном режиме работы;
• Возможность выбора оператором катода, в зависимости от решаемых в данный момент задач: дешевый вольфрамовый для рутинной работы или LaB6 для тонких исследований. Катоды взаимозаменяемы, предварительно отцентрированы на заводе, и их замена занимает считанные минуты;
• Полностью автоматизированная и хорошо защищенная от различных нештатных ситуаций вакуумная система;
• Возможность работать с газящими или непроводящими образцами в режиме контролируемого пониженного вакуума;
• Наличие шлюзовой камеры, которая существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, электронной и ионной колонн, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, существенно продлевает срок службы катодов и диафрагм;
• Возможность напыления образцов углеродом, вольфрамом и платиной;
• Возможность работы с образцами, уже установленными на держатели растровых и просвечивающих электронных микроскопов без риска повреждения тонких объектов при монтаже-демонтаже;
• Наличие в программном обеспечении опционального модуля для проведения ионной литографии.