Системы химического осаждение из газовой фазы (CVD)

Наиболее часто данные CVD системы применяется в технологии кремниевых, германиевых и арсенид-галлиевых полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также позволяют выращивать пленки SiC с примесью азота.

Базовая конфигурацию CVD системы включает:

1) Ростовая камера.
2) Шлюзовая камера.
3) Система сверхвысоковакуумного транспорта подложек.
4) Система управления и контроля технологическим процессом с помощью специализированного программного обеспечения.
5) Система управления и подачи газами.