в Новосибирске прошла IV Всероссийская конференция "Физические и физико-химические основы ионной имплантации". Tokyo Boeki, являясь ведущей компанией по предоставлению комплексных решений для науки и промышленности, выступила одним из спонсоров мероприятия.
В рамках конференции были рассмотрены доклады и сообщения по следующим основным направлениям:
- общие физические и физико-химические проблемы ионной имплантации и радиационной физики твердого тела, физические явления в электрических и тепловых полях;
- физические проблемы ионной имплантации в полупроводники;
- физические проблемы ионной имплантации в неполупроводниковые материалы;
- ионно-лучевое формирование наноструктур, объектов спинтроники и их свойства;
- физические явления дальнодействия при ионном облучении и другие вопросы.
На своем стенде Tokyo Boeki представила решения для производства микро- и наноэлектронных устройств. В рамках пленарных заседаний представитель компании Тошиказу Обата дал презентацию о новых трендах в области ионной имплантации и ионных имплантерах производства компании Ulvac. В своем выступлении г-н Обата рассказал о применении ионного имплантера (модель SOPHI-200/260) для производства IGBT устройств (силовых биполярных транзисторов с изолированными затворами).
